产品详情
洁净无氧烘箱专为需要洁净和低氧环境的精密烘烤工艺而设计。该设备采用热风循环、氮气进气/排气控制和HEPA过滤技术，提供稳定可控的热处理环境。
该烘箱依据包括GB 2423.2-1989和GB/T 11158-1988在内的干燥箱技术要求制造。它广泛应用于LCD、CMOS IC、电子元件、医疗实验室及其他需要严格控制温度、洁净度和氧化的行业。
应用
洁净无氧烘箱适用于：LCD和液晶显示组件加工、CMOS IC和半导体元件烘烤、电子元件老化与热处理、医疗实验室样品干燥、精密材料热处理、氧化敏感材料固化与干燥、需要低颗粒水平的洁净室生产工艺
产品特点
洁净无氧处理环境
氮气进气与排气控制可降低氧气浓度，有助于防止高温烘烤过程中发生氧化。
Class 100洁净度设计
配备HEPA过滤和优化气流结构，减少空气中的颗粒物。
高温稳定性
支持最高250℃的工作温度，特殊工艺最高温度可达360℃。
精确温控
PID控制配SSR输出，提供精确的温度调节和稳定运行。
均匀气流系统
水平气流设计确保空气分布平衡，提高温度均匀性。
SUS304不锈钢腔体
全焊接不锈钢内腔减少污染并防止颗粒产生。
节能保温结构
高密度128K保温材料最大程度减少热损失并提高能源效率。
先进温度监控
6通道温度记录仪提供实时监控和工艺记录。
智能控制系统
触摸屏操作简化参数设置和设备管理。
全面安全保护
多重保护功能确保生产过程中安全可靠运行。
技术参数
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 设备类型 | 洁净无氧烘箱 |
| 工作腔尺寸 | 宽 500 × 深 650 × 高 500 mm / 宽 600 × 深 700 × 高 600 mm / 宽 700 × 深 900 × 高 700 mm |
| 洁净度等级 | Class 100（符合 FED-STD-209E） |
| 颗粒控制 | 0.3 μm 颗粒 <300 个，0.5 μm 颗粒 <100 个 |
| 温度范围 | +50℃至 + 250℃ |
| 最高温度 | 360℃ |
| 温度均匀性 | ±2℃（空腔测试） |
| 温度精度 | ±1℃（空腔测试） |
| 加热方式 | 洁净无氧化电加热系统 |
| 气流方向 | 从左到右水平气流 |
| 过滤系统 | 进口 HEPA 过滤器 |
| 温度控制器 | PID 自整定温度控制器 |
| 温控输出 | SSR 固态继电器功率控制 |
| 温度传感器 | 铠装 K 型热电偶 |
| 温度监控 | 6 通道温度记录仪 |
| 控制系统 | 触摸屏操作 |
| 内腔材料 | SUS304 不锈钢 |
| 外部材料 | SS41 钢板，配高温涂层 |
| 保温材料 | 128K 高密度保温板 |
| 气体控制 | 氮气进气与排气系统 |
| 安全保护 | 急停、超温保护、断电报警、缺相保护、过载保护、短路保护、漏电保护、电磁门联锁 |
常见问题
1.洁净无氧烘箱的用途是什么？
洁净无氧烘箱提供受控的低氧和低颗粒加热环境，防止热处理过程中发生氧化和污染。
2.哪些行业常用这种烘箱？
广泛应用于LCD、CMOS IC、半导体、电子和医疗实验室等需要精确加热控制的应用。
3.为什么烘箱中使用氮气？
氮气降低腔体内的氧气浓度，保护敏感材料在烘烤过程中免受氧化。
4.烘箱如何实现Class 100洁净度？
设备采用HEPA过滤、不锈钢结构和优化气流设计来减少颗粒污染。
5.腔体尺寸和规格可以定制吗？
可以。工作腔尺寸、温度范围、氮气控制系统及其他配置可根据生产要求定制。
洁净无氧烘箱为半导体、精密电子及新材料领域提供高纯度无尘无氧热处理方案。设备采用密闭洁净腔体设计、氮气置换脱氧、控温精度高、温场均匀稳定、有效杜绝工件氧化变色、无杂质污染，适配精密制程工艺，广泛用于芯片组件、电子元器件、薄膜材料、精密镀层工件的无氧烘干、固化定型、退火热处理工序。
工厂展示
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